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上海梓鶴機械設(shè)備有限公司提供半導體刻蝕設(shè)備配套服務(wù)!
四分區(qū)RF源系統(tǒng):13.56MHz射頻電源(功率0-3000W),通過獨立控制四個區(qū)域的功率分布,實現(xiàn)晶圓面內(nèi)刻蝕均勻性<±3%(1σ)動態(tài)匹配網(wǎng)絡(luò):實時調(diào)節(jié)阻抗匹配,確保等離子···
射頻功率:13.56MHz,300W(標配),可選500W升級電極配置:直徑240mm平行極板,間距可調(diào)(10-80mm)等離子體密度:1×101?-1×1012 ions/cm3晶圓尺寸:最大8英寸(20···
晶圓尺寸:8英寸(200mm),兼容6英寸及以下基板腔室結(jié)構(gòu):單腔或多腔集群設(shè)計,集成刻蝕(Etch)與剝離(Ash)模塊真空系統(tǒng):Alcatel ATH-1300M或Seiko Seiki STP-H1303渦···
晶圓尺寸:8英寸(200mm),兼容SNNF(Single Notch No Flat)晶圓形態(tài)。射頻系統(tǒng):源射頻:13.56MHz,最大功率3000W(控制等離子體密度)。偏置射頻:13.56MHz,最大功率1···
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